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那諾-馬斯特中國有限公司

手機：17317363700
電話：021-62318025
郵箱：moses.zhang@nano-china.com
網(wǎng)址：http://www.is0513.com/ShowSupplierProductsList184513/0.htm
產(chǎn)品總數(shù)：36
CB指數(shù)：58
國籍：中國
那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，臺灣和澳門)的客戶，同時我們在中國大陸設(shè)有專門的服務(wù)辦公室，提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國際領(lǐng)先的缺陷檢測和高速鍍層測量的計量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。自2001年Nano-Master開始設(shè)計開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全球薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點實驗室。我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)

英文名稱	中文名稱	CAS號	操作
Optical coating	進口光學(xué)鍍膜機		詳細
NIE-3500(A) fully automatic ion beam cleaning system	NIE-3500（A）全自動離子束清洗系統(tǒng)		詳細
SWC-5000 Fully Automatic Megasonic Wafer Cleaning Machine	SWC-5000全自動兆聲晶圓清洗機		詳細
NPD-4000(A) fully automatic PLD pulse laser deposition system	NPD-4000（A）全自動PLD脈沖激光沉積系統(tǒng)		詳細
NIM-4000(A) fully automatic ion milling and etching	NIM-4000（A）全自動離子銑刻蝕		詳細
NA	KLA光學(xué)輪廓儀 Profilm 3D 白光干涉儀		詳細
Optical Profiler	美國光學(xué)輪廓儀 Zeta-300 多模式三維光學(xué)輪廓儀		詳細
Etching equipment NRE-3500(A) fully automatic reactive ion etcher Nano-Master	刻蝕設(shè)備 NRE-3500（A）全自動反應(yīng)離子刻蝕機那諾-馬斯特		詳細
Magnetron Sputtering Machine NSC-4000SPUTTER Magnetron Sputtering Coating Machine Nano-Master	磁控濺射儀 NSC-4000Sputter磁控濺射鍍膜機那諾-馬斯特		詳細
PECVD equipment microwave plasma chemical vapor deposition system	PECVD設(shè)備微波等離子化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)		詳細
Wafer cleaning equipment SWC-4000 Megasonic wafer (mask) cleaning machine	晶圓清洗設(shè)備 SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機		詳細
NSC-3500(A) fully automatic magnetron sputtering system	NSC-3500（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)		詳細
NTE-3500(A) Fully automatic thermal evaporation system	NTE-3500（A）全自動熱蒸發(fā)系統(tǒng)		詳細
NMC-4000(A) fully automatic PAMOCVD system	NMC-4000（A）全自動PAMOCVD系統(tǒng)		詳細
NRE-4000 RIE-PE Etching Machine	NRE-4000型RIE-PE刻蝕機		詳細
NLD-4000(A) fully automatic atomic layer deposition system	NLD-4000（A）全自動原子層沉積系統(tǒng)		詳細
NIE-4000(M)IBE Ion Beam Etching	NIE-4000（M）IBE離子束刻蝕		詳細
Metal Organic Chemical Vapor Deposition System MOVPE Equipment	金屬有機化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)MOVPE設(shè)備		詳細
NPC-4000(A) fully automatic plasma stripping machine (etching machine)	NPC-4000（A）全自動等離子去膠機（刻蝕機）		詳細
SWC-4000 Megasonic Wafer (Mask) Cleaning Machine	SWC-4000兆聲晶圓（掩模版）清洗機		詳細
NRE-4000(A) fully automatic reactive ion etching	NRE-4000（A）全自動反應(yīng)離子刻蝕		詳細
NA	Alpha-Step D-500 探針式輪廓儀/臺階儀		詳細
Spin Coater	勻膠機/旋涂儀		詳細
NA	KLA-D600 高精度探針式輪廓儀/臺階儀 Alpha-Step D-600		詳細
NA	臺階儀 KLA 探針式表面輪廓儀 P-7（臺階儀）		詳細
NRE-3500(M) Reactive Ion Etcher	NRE-3500（M）反應(yīng)離子刻蝕機		詳細
SWC-3000 Megasonic Assisted Photoresist Stripping System	SWC-3000兆聲輔助光刻膠剝離系統(tǒng)		詳細
LSC-4000 Megasonic Substrate Wet Degumming and Cleaning System	LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)		詳細
NDR-4000(A) Fully Automatic DRIE Deep Reactive Ion Etching	NDR-4000（A）全自動DRIE深反應(yīng)離子刻蝕		詳細
NSC-4000(A) fully automatic magnetron sputtering system	NSC-4000（A）全自動磁控濺射系統(tǒng)		詳細
NPE-4000(A) fully automatic PECVD plasma chemical vapor deposition system	NPE-4000（A）全自動PECVD等離子體化學(xué)氣相沉積系統(tǒng)		詳細
NEE-4000(A) Fully Automatic Electron Beam Evaporation System	NEE-4000（A）全自動電子束蒸發(fā)系統(tǒng)		詳細
ALD atomic layer deposition NLD-3000 atomic layer deposition system	ald原子層沉積 NLD-3000原子層沉積系統(tǒng)		詳細
Magnetron sputtering coating machine NSC-3500(M)Magnetron sputtering system for laboratory research and development	磁控濺射鍍膜機 NSC-3500（M）實驗室研發(fā)用磁控濺射系統(tǒng)		詳細
Ion Beam Etcher NIE-4000(A) Fully Automatic IBE Ion Beam Etcher Nano-Master	離子束刻蝕機 NIE-4000（A）全自動IBE離子束刻蝕那諾-馬斯特		詳細
LSC-5000 Fully Automatic Megasound Large Substrate Wet Stripping System	LSC-5000全自動兆聲大基片濕法去膠系統(tǒng)		詳細

產(chǎn)品總數(shù)：36 產(chǎn)品頁碼：
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