LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)概述：
兆聲和清洗技術(shù)的發(fā)展，對(duì)MEMS和半導(dǎo)體等領(lǐng)域的晶圓和掩模版清洗提供了的水平，可以幫助用戶獲得z干凈的晶圓片和掩模版。
NANO-MASTER提供兆聲單晶圓&掩模清洗(LSC)系統(tǒng)，用于的無損兆聲清洗?？梢赃m用于易受損的帶圖案或無圖案的基片，包含帶保護(hù)膜的掩模版。為了在確保不損傷基片的情況下達(dá)到*化的清洗效果，兆聲能量的密度必須保持在稍稍低于樣片上任意位置上的損傷閾值。NANO-MASTER的技術(shù)確保了聲波能量均勻分布到整個(gè)基片表面，通過分布能量的z大化支持z理想的清洗，同時(shí)保證在樣片的損傷閾值范圍內(nèi)。
LSC系統(tǒng)提供了可控的化學(xué)試劑滴膠能力，這使得顆粒從基片表面的去除能力得以進(jìn)一步加強(qiáng)。SWC和LSC具備對(duì)點(diǎn)試劑滴膠系統(tǒng)，可以*節(jié)省化學(xué)試劑的用量的。滴膠系統(tǒng)支持可編程的化學(xué)試劑混合能力，提供了可控的化學(xué)試劑在整個(gè)基片上的分布。
通過聯(lián)合使用化學(xué)試劑滴膠和NANO-MASTER的兆聲清洗技術(shù)，系統(tǒng)去除顆粒的能力得到進(jìn)一步優(yōu)化。顆粒從表面被釋放的能力也因此得到提升，從而被釋放的顆粒在幅流的DI水作用下被掃除出去，而把回附的數(shù)量降到了z低水平。從基片表面被去除。如果沒有使用幅流DI水的優(yōu)勢(shì)，的靜態(tài)可循環(huán)兆聲清洗槽會(huì)有更大數(shù)量的顆?；馗?，并且因此需要更多的去除這些顆粒。
此外，NANO-MASTER的清洗機(jī)都還提供了一系列的選配功能。PVA軟毛刷提供了機(jī)械的方式去除無圖案基片上的污點(diǎn)和殘膠。DI水臭氧化的選配項(xiàng)提供了有機(jī)物的去除，而無須腐蝕性的化學(xué)試劑。我們的氫化DI水系統(tǒng)跟兆聲能量結(jié)合可以達(dá)到納米級(jí)的顆粒去除。根據(jù)不同的應(yīng)用，某些選配項(xiàng)將會(huì)進(jìn)一步提高設(shè)備去除不想要的顆粒和殘留物的能力。
SWC系統(tǒng)能夠就地實(shí)現(xiàn)熱氮或異丙醇甩干?！案蛇M(jìn)干出” 一步工藝可以在我們的系統(tǒng)中以z低的投資和購置成本來實(shí)現(xiàn)。NANO-MASTER清洗機(jī)的工藝處理時(shí)間可以在3-5分鐘內(nèi)完成，具體是3分鐘還是5分鐘取決于基片的尺寸以及附加的清洗配件的使用情況。
NANO-MASTER的技術(shù)也適用于清洗背部以及帶保護(hù)膜掩模版前面的對(duì)準(zhǔn)標(biāo)記，降低這些掩模版的不必要去除和重做保護(hù)膜的幾率。它也可以用于去除薄膜膠黏劑的黏附性并準(zhǔn)備表面以便再次覆膜。此外，帶薄膜掩模版的全部正面的兆聲清洗以及旋轉(zhuǎn)甩干可以做到無損并且對(duì)薄膜無滲漏。
LSC-4000兆聲大基片濕法去膠清洗系統(tǒng)應(yīng)用：
· 光刻膠去除/剝離
· 硅片
· 藍(lán)寶石片
· 圓框架上的芯片
· 顯示面板
· ITO涂覆的顯示屏
· 帶保護(hù)膜的分劃版
· 掩模版空白部位
· 掩模版接觸部位
· 帶圖案/不帶圖案的掩模版
特點(diǎn)：
· 支持450mm直徑的圓片或15”x15”方片
· 帶兆聲、DI、刷子、熱DI、高壓DI、熱氮、化學(xué)試劑滴膠臂的大腔體
· 帶化學(xué)試劑滴膠的刷子轉(zhuǎn)速可調(diào)節(jié)
· 帶LABVIEW軟件的PC全自動(dòng)控制
· 觸摸屏用戶界面
· 手動(dòng)上下載片
· 安全互鎖及警報(bào)裝置
· 30”D x 26”W 的占地面積
選配項(xiàng)：
· 化學(xué)試劑傳輸模塊
· Piranha溶液清洗
· 臭氧化DI水（20ppm的O3）
· 氫化的DI水
· 高壓DI水
· 熱DI水
· 溶劑和酸分離排放
· IR紅外加熱
· DI水循環(huán)機(jī)
· 耐火立柜
· 機(jī)械手上下載片，帶EFEM以及SMIF界面
關(guān)鍵字： 兆聲大基片去膠系統(tǒng);濕法去膠機(jī);進(jìn)口單片去膠機(jī);全自動(dòng)大基片去膠機(jī);進(jìn)口全自動(dòng)去膠機(jī);進(jìn)口濕法去膠機(jī);全自動(dòng)兆聲去膠機(jī);
那諾-馬斯特中國有限公司成立于2015年4月，是服務(wù)大中華區(qū)(包含中國大陸，香港，臺(tái)灣和澳門)的客戶，同時(shí)我們?cè)谥袊箨懺O(shè)有專門的服務(wù)辦公室，提供銷售和售后技術(shù)服務(wù)。
那諾-馬斯特中國的主要產(chǎn)品包括薄膜沉積設(shè)備、薄膜生長(zhǎng)設(shè)備、干法刻蝕設(shè)備、兆聲濕法清洗設(shè)備及太空模擬測(cè)試設(shè)備等等。Nano-Master的前身是那諾-馬斯特美國，該公司是法國那諾-馬斯特有限公司于1992年在美國所創(chuàng)立的全資子公司，是一家國際領(lǐng)先的缺陷檢測(cè)和高速鍍層測(cè)量的計(jì)量公司。自從1993年開始Birol Kuyel博士全面接管那諾-馬斯特美國并正式更名。
自2001年Nano-Master開始設(shè)計(jì)開發(fā)薄膜應(yīng)用方面的設(shè)備，正式面世的系統(tǒng)依次是磁控濺射、PECVD、晶圓/掩模版清洗系統(tǒng)…。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了半導(dǎo)體、MEMS、光電子學(xué)、納米技術(shù)和光伏等。我們的設(shè)備包含用于二氧化硅、氮化硅、類金剛石和CNT沉積的PECVD，用于InGaN、AlGaN生長(zhǎng)的PA-MOCVD，濺射鍍膜(反應(yīng)濺、共濺 、組合濺)，熱蒸發(fā)和電子束蒸發(fā)，離子束刻蝕和反應(yīng)離子刻蝕，原子層沉積，兆聲清洗以及光刻膠剝離等。三十年左右的時(shí)間內(nèi)Nano-Master已經(jīng)發(fā)展成為全球薄膜設(shè)備的供應(yīng)商，已售出的幾百套設(shè)備分布于20多個(gè)不同國家的大學(xué)、研發(fā)中心和國家重點(diǎn)實(shí)驗(yàn)室。
我們聘用技術(shù)熟練并具有良好教育背景的設(shè)計(jì)和制造工程師、應(yīng)用工程師、服務(wù)