高純電子級(jí)四氟化硅(SiF4)作為電子工業(yè)重要原料之一,具有較高的氟硅比,被廣泛應(yīng)用于光纖、半導(dǎo)體或太陽能電池的生產(chǎn),是電子產(chǎn)業(yè)核心制造業(yè)的基礎(chǔ)。它可以高效刻蝕氮化硅、硅化鉭等芯片材料,作為P型摻雜劑及外延沉積擴(kuò)散硅源。特別在新一代芯片制程的高深寬比、大容量金屬層間絕緣介質(zhì)加工工藝中,四氟化硅作為硅源可以達(dá)到較高的化學(xué)沉積速率,制成更優(yōu)越的低介電常數(shù)SiO2薄膜。另外,四氟化硅也是光導(dǎo)纖維制造工藝的主要原料和光纖行業(yè)中硅基半導(dǎo)體離子注入制程的關(guān)鍵成分。
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