Parylene鍍膜設(shè)備主要由以下幾部分組成:
- 蒸發(fā)源:用于加熱Parylene二聚體并將其蒸發(fā)成氣體。
- 反應(yīng)腔室:氣化后的Parylene單體進(jìn)入此腔室,與待鍍物體表面接觸并發(fā)生聚合反應(yīng),形成薄膜。
- 氣體傳輸管道:用于將氣化后的Parylene單體氣體從蒸發(fā)源傳輸至沉積腔室。
- 真空系統(tǒng):保證整個(gè)沉積過(guò)程在低壓環(huán)境下進(jìn)行,有助于提高膜層的均勻性和附著力。
- 溫控系統(tǒng):控制設(shè)備的溫度,以確保反應(yīng)過(guò)程順利進(jìn)行。