化學氣相沉積（Chemical Vapor Deposition，簡稱CVD）是一種廣泛應用于材料科學與工程的薄膜制備技術(shù)。其基本原理是通過在高溫條件下將氣態(tài)前驅(qū)體引入反應室中，經(jīng)過化學反應后，在基底表面沉積出固態(tài)材料薄膜。CVD技術(shù)的核心是通過氣相反應生成固態(tài)沉積物，并且可以精確控制薄膜的厚度、組成及結(jié)構(gòu)。
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