常用名 對(duì)乙酰氧基苯乙烯
別 名 4-乙烯基苯基乙酸酯 |4-乙酰氧基苯乙烯 | 乙酸-4-乙烯基苯基酯
英文名 4-Ethenylphenol acetate
CAS號(hào) 2628-16-2
EINECS 434-600-2
分子式 C10H10O2
分子量 162.185
密 度 1.1±0.1 g/cm3
沸 點(diǎn) 260.0±0.0 °C
熔 點(diǎn) 7-8 °C
閃 點(diǎn) 87.8±0.0 °C
性 狀 無(wú)色液體
用 途
4-乙酰氧基苯乙烯可用于合成作為光致抗蝕劑(光刻膠)主要成分的聚對(duì)羥基苯乙烯。聚對(duì)羥基苯乙烯系列的化學(xué)增幅型光致抗蝕劑是目前國(guó)際上主流的光致抗蝕劑產(chǎn)品,是用于處理光蝕刻集成電路、制造芯片的關(guān)鍵技術(shù)之一。光蝕刻技術(shù)由生產(chǎn)0.3~0.28μm線(xiàn)寬,發(fā)展到改用深紫外光(波長(zhǎng)248nm)生產(chǎn)0.18μm線(xiàn)寬,更可通過(guò)超深紫外光(波長(zhǎng)193nm)刻畫(huà)線(xiàn)寬達(dá)0.11μm的微細(xì)回路。248nm光刻膠通常采用聚對(duì)羥基苯乙烯衍生物為成膜樹(shù)脂,芳基碘鎓鹽或硫鎓鹽作為光致產(chǎn)酸劑,運(yùn)用化學(xué)增幅技術(shù),在光作用下光致酸發(fā)生劑釋放出酸,然后酸催化使聚合物交聯(lián)(負(fù)膠)或發(fā)生脫保反應(yīng)(正膠),從而使感光靈敏度極大地提高。
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