產(chǎn)品名稱:對乙酰氧基苯乙烯
化學(xué)名稱:4-乙酰氧基苯乙烯
英文名稱:4-Ethenylphenol acetate
CAS號:2628-16-2
分子式:C10H10O2
分子量:162.19
EINECS號:434-600-2
外觀:無色透明液體
含量:99%
包裝:25KG/塑料桶
用途:4-乙酰氧基苯乙烯可用于合成作為光致抗蝕劑(光刻膠)。主要成分的聚對羥基苯乙烯。聚對羥基苯乙烯系列的化學(xué)增幅型光致抗蝕劑是目前國際上主流的光致抗蝕劑產(chǎn)品,是用于處理光蝕刻集成電路、制造芯片的關(guān)鍵技術(shù)之一。光蝕刻技術(shù)由生產(chǎn)0.3~0.28μm線寬,發(fā)展到改用深紫外光(波長248nm)生產(chǎn)0.18μm線寬,更可通過超深紫外光(波長193nm)刻畫線寬達0.11μm的微細回路。248nm光刻膠通常采用聚對羥基苯乙烯衍生物為成膜樹脂,芳基碘鎓鹽或硫鎓鹽作為光致產(chǎn)酸劑,運用化學(xué)增幅技術(shù),在光作用下光致酸發(fā)生劑釋放出酸,然后酸催化使聚合物交聯(lián)(負膠)或發(fā)生脫保反應(yīng)(正膠),從而使感光靈敏度極大地提高。
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