科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備,小型蒸鍍儀 鄭州科探KT-Z1650CVD,臺式設計、軟件自動操控、高性價比,非常適合實驗室科研使用。通過加熱蒸發(fā)某種物質使其沉積在固體表面,稱為熱蒸發(fā)鍍膜,熱蒸發(fā)鍍膜技術是歷史最悠久的PVD鍍膜技術之一。熱蒸發(fā)鍍膜機一般主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。
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原樣品沒有鍍膜 115A 100秒 機械泵
115A 100秒 分子泵抽12分鐘 115A 120秒 分子泵抽20分鐘
真空度越高 越不易氧化 越接近金屬本色
科研實驗室小型高溫樣品鍍膜設備KT-Z1650CVD
控制方式
7寸人機界面 手動 自動模式切換控制
加熱方式
數(shù)字式功率調整器
鍍膜功能
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率
≤1200W
輸出電壓電流
電壓≤12V 電流≤120A
真空度
機械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤10^-3Pa
擋板類型
電控
真空腔室
不銹鋼腔體φ160mm x 160mm
樣品臺
可旋轉φ62 (可安裝φ50基底)
樣品臺轉速
8轉/分鐘
樣品蒸發(fā)源調節(jié)距離
70-140mm
蒸發(fā)溫度調節(jié)
≤1800℃
支持蒸發(fā)坩堝類型
鎢絲藍 帶坩堝鎢絲藍 鎢舟 碳繩
預留真空接口
KF25抽氣口 KF16真空計接口 KF16放氣口 6mm卡套進氣口
可選配擴展
機械真空泵(可抽真空 5分鐘<5Pa)
數(shù)顯真空計(測量范圍大氣壓到0.1Pa)
分子泵機組(可抽真空20分鐘≤5x10-3Pa)
鄭州科探儀器設備有限公司
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