直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備,7寸人機(jī)界面,自動(dòng)手動(dòng)模式切換控制,功率1000w直流磁控濺射
單靶直流磁控濺射鍍膜儀可用于制備單層鐵電薄膜、導(dǎo)電薄膜、合金薄膜等。該單靶磁控濺射鍍膜儀與同類設(shè)備相比,其不僅應(yīng)用廣泛,且具有體積小便于操作的優(yōu)點(diǎn),是一款實(shí)驗(yàn)室制備材料薄膜的理想設(shè)備,特別適用于實(shí)驗(yàn)室研究固態(tài)電解質(zhì)及OLED等
單靶直流磁控濺射鍍膜儀是我公司自主研發(fā)的一款高性價(jià)比磁控濺射鍍膜設(shè)備,具有標(biāo)準(zhǔn)化、模塊化、可定制化的特點(diǎn)。
所配電源為1000W大功率直流電源,可用于高能量的金屬濺射鍍膜,根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求也可以選配其他規(guī)格的直流或者射頻電源來實(shí)現(xiàn)各種材料的鍍膜操作。
直流磁控濺射真空鍍膜設(shè)備技術(shù)參數(shù);
控制方式
7寸人機(jī)界面 手動(dòng) 自動(dòng)模式切換控制
濺射電源
直流濺射電源
鍍膜功能
0-999秒5段可變換功率及擋板位和樣品速度程序
功率
≤1000W
輸出電壓電流
電壓≤1000V 電流≤1A
真空
機(jī)械泵 ≤5Pa(5分鐘) 分子泵≤5*10^-3Pa
濺射真空
≤30Pa
擋板類型
電控
真空腔室
不銹鋼腔體φ160mm x 170mm
樣品臺(tái)
可旋轉(zhuǎn)φ62 (可安裝φ50基底)
樣品臺(tái)轉(zhuǎn)速
8轉(zhuǎn)/分鐘
樣品濺射源調(diào)節(jié)距離
40-105mm
真空測(cè)量
皮拉尼真空計(jì)(已安裝 測(cè)量范圍10E5Pa 1E-1Pa)
預(yù)留真空接口
KF25抽氣口 KF16放氣口 6mm卡套進(jìn)氣口
鄭州科探儀器設(shè)備有限公司
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