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四フッ化ハフニウム

四フッ化ハフニウム price.
  • ¥46500 - ¥106300
  • 化學(xué)名: 四フッ化ハフニウム
  • 英語(yǔ)名: HAFNIUM FLUORIDE
  • 別名:ふっ化ハフニウム;四フッ化ハフニウム;フッ化ハフニウム(IV);テトラフルオロハフニウム;ハフニウムテトラフルオリド
  • CAS番號(hào): 13709-52-9
  • 分子式: F4Hf
  • 分子量: 254.48
  • EINECS:237-258-0
  • MDL Number:MFCD00016127
2物価
選択條件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 25g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako)
  • 製品番號(hào)W01FLC006500
  • 製品説明四ふっ化ハフニウム
  • 英語(yǔ)製品説明Hafnium Tetrafluoride
  • 包裝単位25g
  • 価格¥106300
  • 更新しました2021-03-23
  • 購(gòu)入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號(hào)399868
  • 製品説明フッ化ハフニウム(IV) 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium)
  • 英語(yǔ)製品説明Hafnium(IV) fluoride 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium)
  • 包裝単位25g
  • 価格¥46500
  • 更新しました2021-03-23
  • 購(gòu)入
生産者 製品番號(hào) 製品説明 包裝単位 価格 更新時(shí)間 購(gòu)入
富士フイルム和光純薬株式會(huì)社(wako) W01FLC006500 四ふっ化ハフニウム
Hafnium Tetrafluoride
25g ¥106300 2021-03-23 購(gòu)入
Sigma-Aldrich Japan 399868 フッ化ハフニウム(IV) 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium)
Hafnium(IV) fluoride 99.9% trace metals basis (purity excludes up to ~1% zirconium)
25g ¥46500 2021-03-23 購(gòu)入

プロパティ

融點(diǎn)  :310°C (subl.)
沸點(diǎn)  :970°C
比重(密度)  :7.100
溶解性 :reacts with H2O
外見(jiàn)  :Powder
色 :White
水溶解度  :React with water.
Sensitive  :Moisture Sensitive
暴露限界値 :ACGIH: TWA 2.5 mg/m3; TWA 0.5 mg/m3
NIOSH: IDLH 250 mg/m3; IDLH 50 mg/m3; TWA 0.5 mg/m3 CAS データベース :13709-52-9(CAS DataBase Reference)

安全情報(bào)

絵表示(GHS): GHS hazard pictogramsGHS hazard pictograms
注意喚起語(yǔ): Danger
危険有害性情報(bào):
コード 危険有害性情報(bào) 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語(yǔ) シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H318 重篤な眼の損傷 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 1 危険 GHS hazard pictograms P280, P305+P351+P338, P310
H331 吸入すると有毒 急性毒性、吸入 3 危険 GHS hazard pictograms P261, P271, P304+P340, P311, P321,P403+P233, P405, P501
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標(biāo)的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書(shū)き:
P280 保護(hù)手袋/保護(hù)衣/保護(hù)眼鏡/保護(hù)面を著用するこ と。
P302+P352 皮膚に付著した場(chǎng)合:多量の水と石鹸で洗うこと。

説明

Hafnium(IV) fluoride is used as Vacuum deposition.

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