碳酸胍是一種用途極其廣泛的有機(jī)合成原料和分析試劑，主要用于氨基樹脂的pH調(diào)節(jié)劑、抗氧劑、樹脂穩(wěn)定劑和肥皂等，也用作水泥薄漿劑，表面活性劑的添加劑。還可用作洗滌劑的耐濕劑和增效劑，化妝品原料等。
一、生物化學(xué)領(lǐng)域中的應(yīng)用
核酸提取純化是分子生物學(xué)中的一項(xiàng)基本操作。目前在分子生物學(xué)或臨床基因診斷中，由于離心柱法和磁珠法提取的核酸純度較高，且能實(shí)現(xiàn)操作自動(dòng)化，具有提取高效、便捷、大通量的優(yōu)點(diǎn)，是未來臨床診斷中核酸提取的發(fā)展方向。在實(shí)際操作中，由于胍鹽具有降低溶液pH值的作用，這些細(xì)胞裂解液中的胍鹽在pH值近中性或偏酸性的條件容易產(chǎn)生沉淀，不僅帶來試劑需要加熱溶解和吸取操作不方便的不足，而且影響樣品中細(xì)胞裂解效果、降低了核酸提取的取得率。因此，CN102533724B專利提供了一種用于生物樣品中核酸提取純化的細(xì)胞裂解試劑，主要成分為胍鹽、銨根離子和表面活性劑，其中碳酸胍作為胍鹽的一種，就可以應(yīng)用于該領(lǐng)域。
在實(shí)際操作中，由于胍鹽具有降低溶液pH值的作用，這些細(xì)胞裂解液中的胍鹽在pH值近中性或偏酸性的條件容易產(chǎn)生沉淀，不僅帶來試劑需要加熱溶解和吸取操作不方便的不足，而且影響樣品中細(xì)胞裂解效果、降低了核酸提取的得率。
二、染發(fā)劑中的應(yīng)用
近年來，以提高頭發(fā)的美感為目的的染色劑被廣泛使用。在毛發(fā)染色劑方面，最常用的技術(shù)是在堿劑的共存下，使用氧化染料中間體和氧化劑，使其發(fā)生氧化耦合反應(yīng)而進(jìn)行染發(fā)。然而，由于氧化劑容易造成毛發(fā)損傷和脆弱，如果對(duì)這些損傷或脆弱的毛發(fā)進(jìn)行染色，由于頭發(fā)沒有彈性、強(qiáng)韌性和蓬松感，會(huì)使頭發(fā)難以造型。
因此，CN101820852B專利開發(fā)了一種染發(fā)劑組合物，該染發(fā)劑組合物包含成分a和成分b兩部分組成，其中成分a為質(zhì)量份為0.1-20%的芳香族磺基化合物，成分b選自雙甘氨肽、甘氨酰-甘氨酰-甘氨酸及它們的鹽的至少一種，質(zhì)量份為0.01-5%。本發(fā)明的染發(fā)劑組合物還可以含有堿劑，堿劑可以為碳酸胍，堿劑的含量?jī)?yōu)選為0.2-5％質(zhì)量份。
三、材料領(lǐng)域中的應(yīng)用
近年來，在車輛用與房屋用內(nèi)裝飾材料的領(lǐng)域中，由于表面有立體花紋的布具有設(shè)計(jì)性好且高級(jí)感，故其需求在增長(zhǎng)。過去，立毛布采用壓花加工或焊機(jī)加工，形成與布表面大致垂直的凹凸花紋。然而此凹凸花紋端的角度是大致垂直，設(shè)計(jì)容易變得單調(diào)，不夠美觀。
為了使布的表面在自然光下具有立體感，CN100425761C專利提出了一種具有立體花紋的立毛布，為了調(diào)整各區(qū)域的凹凸深度，通過使用計(jì)算機(jī)控制纖維分解液在布料的分布，使纖維分解劑的賦予量不連續(xù)地、階段性地變化，可得到光滑的曲面的凹凸花紋。專利中纖維分解劑配方包含碳酸胍25份，水73份，丙二醇2份，使用本專利技術(shù)可使立毛布表面呈現(xiàn)自然石調(diào)、天然木紋調(diào)或水面波調(diào)等的凹凸花紋。
四、化學(xué)機(jī)械拋光液中的應(yīng)用
隨著互補(bǔ)金屬氧化物半導(dǎo)體（CMOS）工藝開發(fā)的發(fā)展，器件的特征尺寸逐漸縮小，電路密度變的更加復(fù)雜，由此帶來的設(shè)計(jì)和制造變得愈加困難，互連過程中的信號(hào)擁堵進(jìn)一步加劇，為了延續(xù)摩爾定律，解決銅互連的延遲問題，滿足性能，頻寬和功耗的要求，3D IC集成技術(shù)逐漸發(fā)展起來。在垂直方向?qū)⑿酒B層，穿過有源電路直接實(shí)現(xiàn)高效互連，由于大大縮短了互聯(lián)線的長(zhǎng)度，不僅提高了電路性能，還進(jìn)一步降低了功耗。硅通孔（TSV）技術(shù)采用化學(xué)機(jī)械拋光工藝去除金屬銅。TSV制程的集成面臨一個(gè)共同的難題，即TSV制作都需要打通不同材料層，包括硅材料、IC中各種絕緣或?qū)щ姷谋∧?。為了提高三維集成技術(shù)的經(jīng)濟(jì)性，就需要在化學(xué)機(jī)械拋光過程中具有較高的去除速率和合適的拋光選擇比，目前針對(duì)TSV技術(shù)的專用化學(xué)機(jī)械拋光液還沒有商業(yè)化的產(chǎn)品報(bào)道，尤其是TSV阻擋層的拋光液。
CN103834306B專利提出了一種用于硅通孔平坦化的化學(xué)機(jī)械拋光液，解決的技術(shù)問題是滿足了硅通孔平坦化過程中二氧化硅對(duì)氮化硅的去除速率選擇比較高的工藝要求，防止金屬拋光過程中產(chǎn)生的腐蝕，拋光后晶圓表面缺陷和污染物少。
專利中化學(xué)機(jī)械拋光液主要包含磨料、唑類化合物、絡(luò)合劑、陰離子表面活性劑、胍、氧化劑6部分組成。其中，陰離子表面活性劑為烷基磷酸酯鹽表面活性劑，胍則可以選擇碳酸胍，亦或是選用多種胍。