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鉻蝕刻劑1020,1020AC,CHROMIUM ETCHANT
  • 鉻蝕刻劑1020,1020AC,CHROMIUM ETCHANT

鉻蝕刻劑1020,1020AC

價(jià)格 詢價(jià)
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最小起訂量 1加侖
發(fā)貨地 山東
更新日期 2022-05-06

產(chǎn)品詳情

中文名稱:鉻蝕刻劑1020,1020AC英文名稱:CHROMIUM ETCHANT
保存條件: 常溫避光通風(fēng)保存產(chǎn)品類別: 蝕刻劑
2022-05-06 鉻蝕刻劑1020,1020AC CHROMIUM ETCHANT 1加侖/RMB 常溫避光通風(fēng)保存 蝕刻劑
鉻蝕刻劑
這些微型電子產(chǎn)品用的鉻薄膜蝕刻劑對(duì)陽(yáng)性和陰性光刻膠都有良好匹配性。用它們可以幫助刻制細(xì)線條,下蝕現(xiàn)象最低。0.2微米過(guò)濾的高純方劑是關(guān)鍵裝置制備的需要的理想產(chǎn)品。
 
鉻蝕刻劑1020
 
低下蝕高蝕刻速率
 
鉻蝕刻劑1020AC
 
用低蝕刻速度可達(dá)到低下蝕廣匹配性的效果
 
鉻蝕刻劑CRE-473
 
與銅、鎳、金和鉬膜相匹配
 
鉻光掩膜蝕刻劑
 
是理想的高精密度光掩膜蝕刻劑
 
鉻金屬陶瓷蝕刻劑
 
用于鉻—硅膜蝕刻
 
特點(diǎn)
 
· 高純度
   · 0.2微米過(guò)濾品
   · 與光刻膠有良好匹配性
   · 蝕刻速率和圖案均勻
  
鉻蝕刻劑1020和1020AC
 
說(shuō)明
Transene鉻蝕刻劑1020和1020AC是高純高鈰鉻硝酸鹽體系,可以用來(lái)精密清晰地蝕刻鉻和氧化鉻膜。鉻蝕刻劑1020AC不含硝酸,蝕刻速率較低。這兩種蝕刻劑和陰、陽(yáng)性光刻膠都有良好的匹配性。鉻蝕刻劑1020已經(jīng)通過(guò)過(guò)濾去除了所有大于0.2微米的顆粒。鉻蝕刻劑1020AC的邊下蝕現(xiàn)象最微。
 
性質(zhì)
 
 1020 1020AC外觀澄清,橙色澄清,橙色比重1.127—1.1301.127—1.130過(guò)濾0.2微米-------操作溫度可變可變蝕刻速率,40℃40 ?/秒32 ?/秒貯存室溫室溫沖洗去離子水去離子水
 
應(yīng)用
蝕刻速率依膜厚度不同而改變。在室溫下,蝕刻時(shí)間為15-60秒。鉻蝕刻劑要在良好通風(fēng)櫥中操作。
 
鉻蝕刻劑CRE-473
 
說(shuō)明
鉻蝕刻劑CRE-473是微型電子裝置的鉻的選擇性蝕刻劑。CRE-473能有效蝕刻沉積在銅、鎳、金和鉬基板上的鉻膜。和陰、陽(yáng)性光刻膠都有良好匹配性。
 
性質(zhì)
 
外觀水,白色蝕刻速率(在25℃)14 ?/秒操作溫度25-40℃沖洗用去離子水沖洗貯存室溫
 
應(yīng)用
鉻蝕刻劑CRE-473是取來(lái)便可使用的液體。專門設(shè)計(jì)用來(lái)去除銅、鎳、金和鉬等基板上的鉻膜。將蝕刻劑加熱到40℃可以加快較厚鉻膜的蝕刻速率。
 
鉻光掩膜蝕刻劑
(用于制備高精密度光掩膜)
 
本品為改進(jìn)的鉻蝕刻劑,可用于制備高質(zhì)量鉻光掩膜新技術(shù)。用于在微型電子產(chǎn)品中去除鍍?cè)诓A系你t以制出光掩膜圖。
 
特點(diǎn)
·與光刻膠具有良好匹配性
   ·可室溫操作
   ·可觀察的蝕刻控制
   ·在亞微米范圍清晰確定
   ·廉價(jià)經(jīng)濟(jì)
 
說(shuō)明
Transene鉻光掩膜蝕刻劑設(shè)計(jì)用于制造鉻金屬光掩膜的新技術(shù)中的高要求的蝕刻工藝過(guò)程。這種鉻光掩膜生產(chǎn)成本低,當(dāng)用于微型電子產(chǎn)品中時(shí)其性能優(yōu)于乳液型光掩膜。
Transene蝕刻劑可以精密蝕刻鉻。它代替通常的有害實(shí)驗(yàn)室蝕刻劑用于光掩膜生產(chǎn)工藝,具有無(wú)毒無(wú)害的優(yōu)點(diǎn)。這種蝕刻劑可室溫操作,可進(jìn)行直觀蝕刻控制,和陰、陽(yáng)性光刻膠都有良好匹配性。能夠很好記錄細(xì)線條和幾何圖形,公差在低于微米的數(shù)量級(jí)范圍。Transene鉻光掩膜蝕刻劑可一般成功用于柯達(dá)(Kodak)鍍鉻板和玻璃鍍鉻板。
 
鉻光掩膜蝕刻劑性質(zhì)
蝕刻速率25℃時(shí)為800 ?/秒 40℃時(shí)為2400 ?/秒蝕刻能力3mg鉻/ml蝕刻劑操作溫度25℃溶解性可溶于水貯存條件室溫貯存壽命無(wú)限長(zhǎng)
應(yīng)用
建議使用的光刻膠材料,包括陰性和陽(yáng)性光刻膠要與鉻光掩膜蝕刻劑要有良好匹配性。這樣便可以使鉻上的微型圖案具有重觀性。這種蝕刻劑可直接用于柯達(dá)(Kodak)金屬鍍板P,它是在鍍鉻玻璃板加涂一層陽(yáng)性光刻膠而制成的。
操作步驟要按指導(dǎo)意見(jiàn)上所敘述的進(jìn)行(報(bào)告1-147)。一般說(shuō)來(lái),蝕刻過(guò)程包括下列步驟:
1.      涂加光刻膠
2.      預(yù)烘烤
3.      在紫外光源下將光刻膠暴光
4.      光刻膠顯影
5.      后烘烤
6.      蝕刻鉻
基板上鍍鉻層的厚度為800 ?數(shù)量級(jí)。因此,蝕刻時(shí)間在60秒左右。
鉻蝕刻劑CE-8001-N
 
CE-8001-N型鉻蝕刻劑是一種高鈰銨硝酸鹽/硝酸蝕刻溶液,可用于所有類型鉻板的蝕刻。蝕刻速率要依基板鉻的密度和工藝條件而定。在室溫下(25℃)的蝕刻時(shí)間在15-55秒鐘范圍內(nèi)。這種蝕刻劑可以和一種添加的表面活性劑(CE-8001-NS)一起供應(yīng)。
 
物理和化學(xué)性質(zhì)
 
外觀橘黃色澄清液體PH(20℃)<1.0比重(20℃)1.103-1.105過(guò)濾0.1微米金屬滿足或優(yōu)于SEMI標(biāo)準(zhǔn)
 
貯存和處理
在室溫下貯存,避免日光直接照射,當(dāng)不用時(shí)貯藏容器要密封。這是一種氧化性酸溶液,處理時(shí)要當(dāng)心。萬(wàn)一接觸到眼和皮膚時(shí),要用大量清水沖洗,炎癥持續(xù)時(shí),要請(qǐng)醫(yī)生診治。
 
包裝
    1加侖塑料瓶裝
 
 
鉻蝕刻劑 CE-8002-A
 
CE-8002-A鉻蝕刻劑是一種高鈰銨/醋酸蝕刻溶液,用于需要蝕刻速率低、無(wú)邊下蝕的情況下鉻基板的蝕刻。一般來(lái)說(shuō),在室溫下(25℃)的蝕刻時(shí)間在20-60鈔范圍內(nèi)。
 
物理和化學(xué)性質(zhì)
 
外觀淡橙色澄清液體PH(20℃)<1.0比重(20℃)1.090-1.095過(guò)濾0.2微米金屬滿足或超過(guò)SEMI標(biāo)準(zhǔn)
 
貯存和處理
在室溫下避開(kāi)陽(yáng)光曝曬貯存,不使用時(shí)容器要密封。這是一種氧化性酸溶液,處理時(shí)要當(dāng)心。萬(wàn)一接觸到眼或皮膚時(shí),要用大量清水沖洗。如果炎癥不消,要請(qǐng)醫(yī)生診治。
 
包裝
1加侖塑料瓶裝


關(guān)鍵字: 鉻蝕刻劑 蝕刻液;

公司簡(jiǎn)介

美國(guó)Transene蝕刻劑(蝕刻液,腐蝕液)中國(guó)供應(yīng)商。金蝕刻劑8148,TFA;鉭蝕刻劑SIE—8607;鋁蝕刻劑,A型; 銀蝕刻劑TFS;鈀蝕刻劑TFP;鉻蝕刻劑1020;加HF改進(jìn)的緩沖劑;BOE; Transene 超聲洗滌劑TUD;鎳蝕刻劑TFB;氮化鉭蝕刻劑;鈦蝕刻劑TFT;銅蝕刻劑;鎳鉻蝕刻劑TFC和TFN;TFM鉬蝕刻和TFW鎢蝕刻劑;半導(dǎo)體蝕刻劑;氧化錫/銦錫蝕刻劑TE100;
成立日期 2016-09-21 (9年) 注冊(cè)資本 100.000000萬(wàn)
員工人數(shù) 10-50人 年?duì)I業(yè)額 ¥ 100萬(wàn)以內(nèi)
主營(yíng)行業(yè) 化學(xué)試劑,醫(yī)藥中間體,合成材料中間體,其他中間體,液晶中間體 經(jīng)營(yíng)模式 貿(mào)易,工廠,試劑,定制,服務(wù)
  • 煙臺(tái)科瑞爾化學(xué)科技有限公司
非會(huì)員
  • 公司成立:9年
  • 注冊(cè)資本:100.000000萬(wàn)
  • 企業(yè)類型:有限責(zé)任公司
  • 主營(yíng)產(chǎn)品:吩嗪 酰胺類 等
  • 公司地址:山東省煙臺(tái)市芝罘區(qū)海港路29號(hào)1506室
詢盤

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