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トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III)

トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III) price.
  • ¥5100 - ¥94600
  • 化學(xué)名: トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III)
  • 英語名: NEODYMIUM(III) TRIFLUOROMETHANESULFONATE
  • 別名:トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III);ネオジム(III)トリフラート;トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム;トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III), min. 98% (Neodymium triflatトリフル酸ネオジム
  • CAS番號: 34622-08-7
  • 分子式: C3F9NdO9S3
  • 分子量: 591.45
  • EINECS:
  • MDL Number:MFCD00192343
7物価
選択條件:
ブランド
  • 富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 東京化成工業(yè)
  • Sigma-Aldrich Japan
パッケージ
  • 5g
  • 25g
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01W0114-0830
  • 製品説明トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム
  • 英語製品説明Neodymium Trifluoromethanesulfonate
  • 包裝単位5g
  • 価格¥15800
  • 更新しました2020-09-21
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01SRM60-5200
  • 製品説明トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III), min. 98% (Neodymium triflatトリフル酸ネオジム
  • 英語製品説明Neodymium(III) trifluoromethanesulfonate, min. 98% (Neodymium triflate)
  • 包裝単位5g
  • 価格¥23200
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01W0114-0830
  • 製品説明トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム
  • 英語製品説明Neodymium Trifluoromethanesulfonate
  • 包裝単位25g
  • 価格¥64100
  • 更新しました2020-09-21
  • 購入
  • 生産者富士フイルム和光純薬株式會社(wako)
  • 製品番號W01SRM60-5200
  • 製品説明トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III), min. 98% (Neodymium triflatトリフル酸ネオジム
  • 英語製品説明Neodymium(III) trifluoromethanesulfonate, min. 98% (Neodymium triflate)
  • 包裝単位25g
  • 価格¥94600
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者東京化成工業(yè)
  • 製品番號T1919
  • 製品説明トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III) >97.0%(T)
  • 英語製品説明Neodymium(III) Trifluoromethanesulfonate >97.0%(T)
  • 包裝単位5g
  • 価格¥5100
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者東京化成工業(yè)
  • 製品番號T1919
  • 製品説明トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III) >97.0%(T)
  • 英語製品説明Neodymium(III) Trifluoromethanesulfonate >97.0%(T)
  • 包裝単位25g
  • 価格¥15600
  • 更新しました2024-03-01
  • 購入
  • 生産者Sigma-Aldrich Japan
  • 製品番號425184
  • 製品説明トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III) 98%
  • 英語製品説明Neodymium(III) trifluoromethanesulfonate 98%
  • 包裝単位5g
  • 価格¥5440
  • 更新しました2023-06-01
  • 購入
生産者 製品番號 製品説明 包裝単位 価格 更新時間 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01W0114-0830 トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム
Neodymium Trifluoromethanesulfonate
5g ¥15800 2020-09-21 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01SRM60-5200 トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III), min. 98% (Neodymium triflatトリフル酸ネオジム
Neodymium(III) trifluoromethanesulfonate, min. 98% (Neodymium triflate)
5g ¥23200 2024-03-01 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01W0114-0830 トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム
Neodymium Trifluoromethanesulfonate
25g ¥64100 2020-09-21 購入
富士フイルム和光純薬株式會社(wako) W01SRM60-5200 トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III), min. 98% (Neodymium triflatトリフル酸ネオジム
Neodymium(III) trifluoromethanesulfonate, min. 98% (Neodymium triflate)
25g ¥94600 2024-03-01 購入
東京化成工業(yè) T1919 トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III) >97.0%(T)
Neodymium(III) Trifluoromethanesulfonate >97.0%(T)
5g ¥5100 2024-03-01 購入
東京化成工業(yè) T1919 トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III) >97.0%(T)
Neodymium(III) Trifluoromethanesulfonate >97.0%(T)
25g ¥15600 2024-03-01 購入
Sigma-Aldrich Japan 425184 トリフルオロメタンスルホン酸ネオジム(III) 98%
Neodymium(III) trifluoromethanesulfonate 98%
5g ¥5440 2023-06-01 購入

プロパティ

比重(密度)  :1.7
貯蔵溫度  :Inert atmosphere,Room Temperature
外見  :Powder
色 :purple
水溶解度  :Soluble in water.
安定性: :hygroscopic
CAS データベース :34622-08-7(CAS DataBase Reference)

安全情報

絵表示(GHS): GHS hazard pictograms
注意喚起語: Warning
危険有害性情報:
コード 危険有害性情報 危険有害性クラス 區(qū)分 注意喚起語 シンボル P コード
H315 皮膚刺激 皮膚腐食性/刺激性 2 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P302+P352, P321,P332+P313, P362
H319 強い眼刺激 眼に対する重篤な損傷性/眼刺激 性 2A 警告 GHS hazard pictograms P264, P280, P305+P351+P338,P337+P313P
H335 呼吸器への刺激のおそれ 特定標(biāo)的臓器毒性、単回暴露; 気道刺激性 3 警告 GHS hazard pictograms
注意書き:
P261 粉じん/煙/ガス/ミスト/蒸気/スプレーの吸入を避ける こと。
P304+P340 吸入した場合:空気の新鮮な場所に移し、呼吸しやすい 姿勢で休息させること。
P305+P351+P338 眼に入った場合:水で數(shù)分間注意深く洗うこと。次にコ ンタクトレンズを著用していて容易に外せる場合は外す こと。その後も洗浄を続けること。
P405 施錠して保管すること。

説明

Neodymium(III) trifluoromethanesulfonate is used in the Aldol reaction of silyl enol ethers with aldehydes and as a catalyst for dehydration of fructose, Diels-Alder reactions of cyclopentadiene and alkyl acrylates, α-amination reactions of pyrazolones, polymerization reactions of cyclosiloxanes, direct polycondensation of dicarboxylic acids and diols, regioselective reductive ring opening of benzylidene acetals, Paal-Knorr cyclocondensation and nitration of benzene.